蒋玉龙

复旦大学
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大师简介
蒋玉龙,男,博士,1977年4月生,复旦大学微电子研究院副研究员。1999年毕业于复旦大学物理系,获学士学位;2002年毕业于复旦大学微电子学系,获硕士学位,硕士论文题目为“固相反应NiSi及其与Si肖特基接触特性研究”;2005年毕业于复旦大学微电子学系,获博士学位,博士学位论文题目为“用于亚0.1微米 CMOS器件技术中的镍硅化物研究”。2005年7月起受聘于复旦大学微电子研究院,任助理研究员,从事集成电路先进工艺、铜互连可靠性和新型纳米器件研究;2006年4月晋升副研究员。2003.2-2004.2月在美国亚舍力(Axcelis)公司从事超浅结上自对准NiSi工艺合作研究。2006.1-2006.3,2006.8-2006.9月在比利时根特大学从事先进硅化物合作研究。2007.3-2007.5,2008.7-9月在香港城市大学从事硅化物表征技术合作研究。在Appl. Phys. Lett.、J. Appl. Phys.等期刊上作为第1作者和通讯作者已发表SCI/EI论文19篇;曾任第七届国际结技术研讨会(IWJT-2007)执委会共主席、IWJT-2008程序委员会共主席和2008年国际固态与集成电路技术会议(ICSICT-2008)组织委员会委员。多次受邀赴SMIC等公司做关于NiSi工艺方面的报告并与研发人员进行相关技术课题讨论和合作研究。从2005年7月毕业参加工作到现在申请人关于硅化物方面的研究工作已经相继得到了上海市应用材料研发基金(AM0514)、国家自然科学基金(90607018)、上海市青年科技启明星项目(07QA14004)以及教育部霍英东基金会(114006)的资助,其中前三个项目都已经顺利完成并结题。