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超薄金属硅化物形成中的疑团和事实(Myth and facts in the formation of ultrathin(<10nm)metal silicide films)
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超薄金属硅化物形成中的疑团和事实(Myth and facts in the formation of ultrathin(<10nm)metal silicide films)

未来的科技朝超更薄的硅化物薄膜发展,中国的高校如何迎接这样高难度的研究挑战?本文介绍了超薄(小于10纳米)金属硅化物形成的一些传闻和事实。瑞典乌普萨拉大学的张世理教授从物理机制、科学现状等方面向我们进行专业性的高端传授。

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视频笔记

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主讲人

    张世理
    瑞典乌普萨拉大学
    张世理,KTH信息通讯技术学院教授,国家教育部第七批“长江学者奖励计划特聘教授”。是固体电子学的首席教授。在上海复旦大学物理系和材料科学系获得理学学士和理学硕士学位,在瑞典皇家工学院获得工学博士学位。